国产光刻机的deepseek时刻
国产干法DUV整机（KrF机台）、EUV两镜投影微场曝光装置以及先进封装光刻机正式公开面世
一、本届工博会首次打造集成电路专区，上海微电子以及芯上微装各自都展出重磅产品，背后对应的是今年产业端重磅的0-1突破，先进封装机台正式量产、干法DUV近期将进入量产测试阶段、国产EUV进入原理机搭建阶段（本次展出为EUV概念验证机），国产光刻机产业进入爆发元年！
二、一直强调光刻机三大产业趋势：低端量产、高端DUV突破、国产EUV技术定型！对于上游公司而言，今年属于供应链配套元年，量价齐升的投资大年，核心公司持续向市场印证这一观点！
三、展望后续，预估近期国产整机将进入量产线验证、前道I线验证进入尾声，上游核心公司具备潜在加单机会，坚定把握本轮自主可控先进制程光刻机主升浪行情！
相关企业：
1）茂莱光学：深度绑定上海微电子，前道I线订单存在上修机会，今年DUV配套、海外大客户持续突破阶段。
2）汇成真空：EUV、DUV核心供应商，大客户近期明确上修订单预期，10-11月份即将向上海大客户发货，第一批批量订单有望落地！核心铲子股弹性巨大。
3）波长光电、福光股份、阿石创、福晶科技、奥普光电、张江高科等逻辑不变。
• 国产干法DUV整机（KrF机台）：2024年9月，工信部公布了首款国产193nm氟化氩（ArF）光刻机，其分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm。2024年版《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》中也包含了国产氟化氪光刻机（110nm）和氟化氩光刻机（65nm）。据业内消息，国产干法DUV近期将进入量产测试阶段。
• EUV两镜投影微场曝光装置：本次工博会展出了EUV概念验证机，标志着国产EUV进入原理机搭建阶段。这是国产EUV技术发展的重要一步，为后续的技术研发和设备制造奠定了基础。
• 先进封装光刻机：上海微电子装备集团和芯上微装都在工博会上展出了先进封装光刻机。上海微电子的先进封装光刻机具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点，可满足Flip - chip、2.5D/3D等先进封装技术要求。芯上微装的先进封装光刻机全球市占率达到35%，国内市占率达到90%，其第500台步进光刻机已于2025年8月8日交付给盛合晶微半导体（江阴）有限公司。
核心观点:制裁反向确认机遇：美国制裁的方向（高性能算力芯片、人工智能）恰恰指明了中国必须自主可控的战略机遇领域。这些领域需要先进制程作为 ...
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